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          幾種主要的真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)

          發(fā)布時間:2013-08-17 09:25:39點擊數(shù):1764次

          真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)包括電阻蒸發(fā)鍍、電子束蒸發(fā)鍍、激光束蒸發(fā)鍍、高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍等。下表列出了幾中蒸發(fā)鍍膜技術(shù)的特點。

          技術(shù)名稱

          電阻蒸發(fā)鍍

          電子束蒸發(fā)鍍

          激光束蒸發(fā)鍍

          高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍

          熱能來源

          高熔點金屬

          高能電子束

          激光能量

          高頻感應(yīng)加熱

          功率密度小

          特點

          簡單成本低

          金屬化合物

          純度高,不分餾

          蒸發(fā)速率大

          1.電阻蒸發(fā)鍍:電阻蒸發(fā)源用于蒸發(fā)低熔點材料,如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等。電阻蒸發(fā)源一般采用鎢、鉬、鉭制作。

          2.電子束蒸發(fā)鍍:利用電子束加熱使膜材汽化蒸發(fā)后,凝結(jié)在基片表面成膜是真空蒸鍍技術(shù)中一種重要的加熱方法。這種裝置的種類很多。隨著薄膜技術(shù)的廣泛應(yīng)用,不但對膜的種類要求繁多,而且對膜的質(zhì)量要求更加嚴(yán)格。電阻蒸發(fā)鍍已不能滿足蒸鍍某些金屬和非金屬的需要。電子束熱源能獲得遠(yuǎn)比電阻熱源更大的能量密度,數(shù)值可達(dá)到104-109w/cm2,因此可以將膜材加熱至3000-6000c。這就為蒸發(fā)難熔金屬和非金屬材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AI2O3等提供了較好的熱源。而且由于被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內(nèi),因而可避免容器材料的蒸發(fā)及容器材料與膜材之間的反應(yīng),這對提高膜的純度是極為重要的。另外,熱量可直接加到膜材表面上,因此熱效率高,熱傳導(dǎo)和熱輻射損失少。

          3.高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍:利用感應(yīng)加熱原理把金屬加熱到蒸發(fā)溫度。將裝有膜層材料的坩堝放在螺旋線圈的中央(非接觸),在線圈中通以高頻電流,可以使金屬膜層材料產(chǎn)生電流將自身加熱升溫,直至蒸發(fā)。

          感應(yīng)加熱蒸發(fā)源的特點:1)蒸發(fā)速率大 2)蒸發(fā)源溫度均勻穩(wěn)定,不易產(chǎn)生鋁滴飛濺現(xiàn)象 3)蒸發(fā)源一次裝料,無須送絲機(jī)構(gòu),溫度控制比較容易,操作簡單 4)對膜材純度要求略寬些。

          4.電弧加熱蒸發(fā)鍍:與電子束加熱方式相類似的一種加熱方式是電弧放電加熱法。它也具有可以避免電阻加熱材料或坩堝材料的污染,加熱溫度較高的特點,特別適用 于熔點高,同時具有一定導(dǎo)電性的難熔金屬、石墨等的蒸發(fā)。同時,這一方法所用的設(shè)備比電子束加熱裝置簡單,因而是一種較為廉價的蒸發(fā)裝置。

          5.激光束蒸發(fā)鍍:采用高功率密度脈沖激光對材料進(jìn)行蒸發(fā),用以形成薄膜的方法,一般稱為激光蒸鍍。

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